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标题
Influence of deposition condition on electrical properties of a-IGZO films deposited by plasma-enhanced reactive sputtering
沉积条件对等离子体增强反应溅射沉积a-IGZO薄膜电学性能的影响
相关领域
退火（玻璃） 材料科学 溅射 Atom（片上系统） 光电子学 薄膜 纳米技术 复合材料 嵌入式系统 计算机科学
网址
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2018.09.143
DOI
10.1016/j.jallcom.2018.09.143 doi
其它 期刊：Journal of Alloys and Compounds
作者：Kosuke Takenaka; Masashi Endo; Giichiro Uchida; Akinori Ebe; Yuichi Setsuhara
出版日期：2018-09-14
求助人
丰富的听云 在 2025-12-13 18:36:02 发布自广东，悬赏 10 积分
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