Cryogenic HF plasma etching of SiO2: Etchant penetration, reactions, and damage formation

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标题	Cryogenic HF plasma etching of SiO2: Etchant penetration, reactions, and damage formation
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943322...
DOI	10.1016/j.apsusc.2026.168226 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Shota Nunomura; Yusuke Imai; Shih-Nan Hsiao; Takayoshi Tsutsumi; Masaru Hori 出版日期：2026-08-31
求助人	www 在 2026-10-23 16:46:10 发布自福建，悬赏 10 积分
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