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 Plasma-assisted atomic layer deposition of nanolaminates for gate dielectric applications 用于栅极电介质应用的纳米层压板的等离子体辅助原子层沉积
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期刊：Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics 作者：N. Y. Garces; David J. Meyer; Virginia D. Wheeler; Z. Liliental‐Weber; D. Kurt Gaskill; et al 出版日期：2013-08-14 |
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