Chemical and physical aspects of the post-exposure baking process used for positive-tone chemically amplified resists

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标题	Chemical and physical aspects of the post-exposure baking process used for positive-tone chemically amplified resists
网址	http://dx.doi.org/10.1147/rd.455.0667
DOI	10.1147/rd.455.0667 doi
其它	期刊：IBM Journal of Research and Development 作者：W. D. Hinsberg; F. A. Houle; M. I. Sanchez; G. M. Wallraff 出版日期：2001-09-01
求助人	LIU 在 2026-06-26 20:07:00 发布自上海，悬赏 10 积分
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