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 Sub-picosecond 1030 nm laser-induced damage threshold evaluation of pulsed-laser deposited sesquioxide thin films 相关领域
材料科学
倍半氧化物
激光器
脉冲激光沉积
光电子学
蓝宝石
薄膜
钇铝石榴石
光学
脉冲持续时间
纳米技术
冶金
兴奋剂
物理
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10.1117/1.oe.61.7.071603
Doi
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期刊：Optical Engineering 作者：Marek Stehlik; Goby Govindassamy; Janis Zideluns; Fabien Lemarchand; Frank Wagner; et al 出版日期：2022-04-23 |
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