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Enhancement of CMOSFETs Performance by Utilizing SACVD-Based Shallow Trench Isolation for the 40-nm Node and Beyond |
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期刊:IEEE transactions on nanotechnology 作者:Yao-Tsung Huang; San-Lein Wu; S. Chang; C. Hung; T. Wang; et al 出版日期:2011-05-01 |
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