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标题
Low-temperature etching of silicon oxide and silicon nitride with hydrogen fluoride
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DOI
10.1116/6.0004019 doi
其它 期刊:Journal of vacuum science & technology
作者:Thorsten Lill; Mingmei Wang; Dong‐Jun Wu; Youn-Jin Oh; Tae‐Won Kim; et al
出版日期:2024-11-18
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踏雪逍遥行 在 2026-09-17 16:58:20 发布自山东,悬赏 10 积分
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