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Investigation on dual functional epoxy resins containing photosensitive group in the main chain for photoresist applications
网址
http://dx.doi.org/10.1080/1023666x.2020.1780849
DOI
10.1080/1023666x.2020.1780849 doi
其它 期刊：International Journal of Polymer Analysis and Characterization
作者：Balaji Krishnasamy; Balakrishnan P. Shanmugaraj; Salem Chandrasekaran Murugavel; Lizong Dai; Denise F. S. Petri
出版日期：2020-05-18
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weibinhu 在 2026-09-21 11:28:42 发布自福建，悬赏 30 积分
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