Comparison of deposition techniques for Mo/Si reflective multilayers for EUV mask blanks

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标题	Comparison of deposition techniques for Mo/Si reflective multilayers for EUV mask blanks EUV掩膜坯Mo/Si反射多层膜制备工艺比较相关领域材料科学极紫外光刻沉积（地质）光电子学纳米技术沉积物地质学古生物学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2600972
DOI	10.1117/12.2600972 doi
其它	期刊：作者：Katrina Rook; Antonio Checco; P.W. Turner; Ashish A. Kulkarni; Kenji Yamamoto; et al 出版日期：2021-10-01
求助人	Gaoge 在 2025-07-10 17:06:32 发布自北京，悬赏 20 积分
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