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 The Etching Mechanisms of SiO2 in Hydrofluoric Acid SiO2在氢氟酸中的腐蚀机理
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Steven Verhaverbeke; Ivo Teerlinck; Chris Vinckier; G. Stevens; R. Cartuyvels; et al 出版日期：1994-10-01 |
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