| 标题 |
 Alleviation of parasitic reactions for III-nitride epitaxy in MOCVD with a spatial separated source delivery method by controlling the main reaction type 控制主反应类型缓解MOCVD中III-氮化物外延的寄生反应
相关领域
金属有机气相外延
异质结
材料科学
氮化物
蓝宝石
外延
光电子学
氨
渗氮
化学工程
分析化学（期刊）
纳米技术
激光器
化学
图层（电子）
光学
有机化学
工程类
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Haojun Yang; Haiyan Wu; Weiguo Hu; Ziguang Ma; Yang Jiang; et al 出版日期：2017-02-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
冰魂
SYLH
pluto
bc
昏睡的蟠桃
不倦
文献看不懂
eee
8R60d8
qiao
HEIKU
xiaowang
科研小民工
皮肤科
归尘
剑指东方是为谁
科研助手6
Luka
wy.he
皖公网安备34019202002308
