The role of the substrate surface area/reactor volume ratio in chemistry and kinetics of chemical vapor deposition

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标题	[高分] The role of the substrate surface area/reactor volume ratio in chemistry and kinetics of chemical vapor deposition
网址	https://doi.org/10.1051/jp4:1999810
DOI	10.1051/jp4:1999810 doi
其它	期刊：Journal de physique 作者：Max Teubner; J. Antes; Zhongfa Hu; W. Zhang; Klaus J. Hüttinger 出版日期：1999-09-01
求助人	manying 在 2026-08-19 14:57:24 发布自天津，悬赏 50 积分
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