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Challenges and progress of PFAS alternatives for ArF resist 相关领域
抵抗
纳米技术
风险分析(工程)
计算机科学
灵活性(工程)
故障排除
工程类
材料科学
医学
过程(计算)
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10.1117/12.3090471
doi
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| 其它 |
期刊:Advanced Lithography 作者:Naohiro Tango; Nishiki Fujimaki; Ryosuke Kato; Akiyoshi Goto; H. Tsubaki 出版日期:2026-04-09 |
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(2025-6-4)