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 Structural investigation of zinc‐based photoresists with different substituents for high‐resolution lithography 高分辨率光刻用不同取代基锌基光刻胶的结构研究
相关领域
光刻胶
化学
锌
抵抗
紫外线
光化学
轨道能级差
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分子
有机化学
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材料科学
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图层（电子）
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期刊：Applied Organometallic Chemistry 作者：Rong Wu; Ming Luo; Lifei Liu; Lei Liu; Weizhen Zhao; et al 出版日期：2023-06-20 |
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