Fundamental study of an electrostatic chuck for silicon wafer handling

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标题	Fundamental study of an electrostatic chuck for silicon wafer handling 硅片静电卡盘的基础研究相关领域薄脆饼材料科学硅电压光电子学电极电介质晶片键合静电学电气工程工程类化学物理化学
网址	https://doi.org/10.1109/tia.2002.1003438
DOI	10.1109/tia.2002.1003438 doi
其它	期刊：IEEE transactions on industry applications 作者：K. Asano; F. Hatakeyama; K. Yatsuzuka 出版日期：2002-05-01
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