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[高分]
 Modification of a force field for molecular dynamics simulations of silicon etching by chlorine atoms 氯原子腐蚀硅分子动力学模拟中力场的修正
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Joseph R. Vella; David B. Graves 出版日期：2022-10-14 |
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