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 Duty cycle estimate of photoresist gratings via monitoring TM/TE diffraction efficiency ratio during development 通过监测显影过程中的TM/TE衍射效率比估算光刻胶光栅的占空比
相关领域
光刻胶
占空比
光学
材料科学
衍射
衍射效率
衍射光栅
栅栏
光电子学
光刻
纳米技术
物理
电压
量子力学
图层（电子）
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期刊：Applied Optics 作者：Biyao Shen; Lijiang Zeng; Lifeng Li 出版日期：2016-10-12 |
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