| 标题 |
 Duty cycle estimate of photoresist gratings via monitoring TM/TE diffraction efficiency ratio during development 通过监测显影过程中的TM/TE衍射效率比估算光刻胶光栅的占空比
相关领域
光刻胶
占空比
光学
材料科学
衍射
衍射效率
衍射光栅
栅栏
光电子学
光刻
纳米技术
物理
电压
量子力学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Optics 作者：Biyao Shen; Lijiang Zeng; Lifeng Li 出版日期：2016-10-12 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
xzy998
唐泽雪穗
yaoli0823
yangjiafengzi
GingerF
含糊的尔槐
pcr163
ccm
eric888
浮游
Criminology34
yuanmay
andrele
糟糕的铁锤
Ankher
pearson
Peng
从容芮
YifanWang
tuanheqi
冬雪丶消融
科目三
追风少年
zzzyyy
wwwww
ukz37752
Maestro_S
Singularity
皖公网安备34019202002308
