| 标题 |
  Electrical Properties of Ultrathin Hf-Ti-O Higher k Gate Dielectric Films and Their Application in ETSOI MOSFET 相关领域
纳米化学
材料科学
高-κ电介质
电介质
MOSFET
栅极电介质
光电子学
纳米技术
工程物理
晶体管
电气工程
物理
工程类
电压
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Nanoscale Research Letters 作者：Yuhua Xiong; Xiaoqiang Chen; Feng Wei; Jun Du; Hongbin Zhao; et al 出版日期：2016-11-30 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
null
GingerF
吃葡萄不吐葡萄皮
无极微光
Criminology34
学霸业
渡人舟
Frank
华无剑
Gp1983
HJJHJH
Elsevier大王
shouyu29
Firsterchao
灞波儿奔
My_magnum_opus
秋风
慈祥的夏天
OK
芽芽
皖公网安备34019202002308
