Defect generation and recovery in high-k HfO2/SiO2/Si stack fabrication

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标题	Defect generation and recovery in high-k HfO2/SiO2/Si stack fabrication
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1882-0786/acdc82
DOI	10.35848/1882-0786/acdc82 doi
其它	期刊：Applied Physics Express 作者：Shota Nunomura; Hiroyuki Ota; Toshifumi Irisawa; Kazuhiko Endo; Yukinori Morita 出版日期：2023-06-08
求助人	Seven 在 2026-11-05 21:56:28 发布自北京，悬赏 10 积分
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