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标题
Plasma-Assisted Halide Vapor Phase Epitaxy for Low Temperature Growth of III-Nitrides
等离子体辅助卤化物气相外延低温生长III族氮化物
相关领域
卤化物 外延 氮化物 等离子体 材料科学 等离子体活化 电介质 半导体 分析化学(期刊) 兴奋剂 相(物质) 气相 光电子学 无机化学 化学 纳米技术 冶金 图层(电子) 环境化学 量子力学 物理 热力学 有机化学
网址
DOI
10.3390/cryst13030373 doi
其它 期刊:Crystals
作者:Г. Позина; Chih‐Wei Hsu; Natalia Abrikossova; Carl Hemmingsson
出版日期:2023-02-22
求助人
huahuagu 在 2025-12-06 05:54:50 发布自黑龙江,悬赏 10 积分
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