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Plasma-Assisted Halide Vapor Phase Epitaxy for Low Temperature Growth of III-Nitrides 等离子体辅助卤化物气相外延低温生长III族氮化物
相关领域
卤化物
外延
氮化物
等离子体
材料科学
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期刊:Crystals 作者:Г. Позина; Chih‐Wei Hsu; Natalia Abrikossova; Carl Hemmingsson 出版日期:2023-02-22 |
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