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 Comparison of Al- and Hf-based hybrid photoresists grown by molecular layer deposition for extreme ultraviolet lithography 用于极紫外光刻的分子层沉积铝基和氢基杂化光刻胶的比较
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Ajay Ravi; Long Viet Than; Jacqueline Lewis; Jingwei Shi; Andreas Werbrouck; et al 出版日期：2024-11-08 |
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