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标题
Future interconnect materials for highly integrated semiconductor devices
用于高度集成半导体器件的未来互连材料
相关领域
材料科学 集成电路 半导体器件 互连 光电子学 电气工程 集成电路封装 电子工程 数码产品 工程类 工程物理 工作(物理) 半导体材料 半导体
网址
DOI
10.1038/s44287-025-00233-y doi
其它 期刊:Nature Reviews Electrical Engineering
作者:Hyeong-Joon Kim; Sehun Oh; Sihyeon An; Jaewon Kim; Taehoon Kim; et al
出版日期:2025-11-24
求助人
科研小菜鸡 在 2025-12-13 08:23:43 发布自中国,悬赏 10 积分
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