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High capacitance density highly reliable textured deep trench SiN capacitors toward 3D integration 面向3D集成的高电容密度高可靠纹理化深沟槽SiN电容器
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Koga Saito; Ayano Yoshida; Rihito Kuroda; Hiroshi Shibata; Taku Shibaguchi; et al 出版日期:2021-03-05 |
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