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标题
Vapor phase surface preparation (etching) of 4H–SiC substrates using tetrafluorosilane (SiF4) in a hydrogen ambient for SiC epitaxy
网址
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S002202481...
DOI
10.1016/j.jcrysgro.2013.05.030 doi
其它 期刊：Journal of Crystal Growth
作者：T. Rana; M.V.S. Chandrashekhar; Tangali S. Sudarshan
出版日期：2013-06-06
求助人
shun 在 2026-02-02 19:39:20 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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    19:39:21 科研通AI机器人（中国 香港）收到请求，开始寻找文献
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  • 8小时前

    shun shun Lv4 求助人 发起了本次求助

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