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标题
HEMT With Ultralow Contact Resistance by Room Temperature Process With One-Step EBL T-Shape Gates for Subterahertz Applications: Design, Fabrication, and Characterization
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制作 高电子迁移率晶体管 接触电阻 表征(材料科学) 材料科学 光电子学 过程(计算) 逻辑门 电子工程 纳米技术 计算机科学 电气工程 晶体管 工程类 电压 操作系统 医学 病理 替代医学 图层(电子)
网址
DOI
10.1109/ted.2024.3499935 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Electron Devices
作者:Huihua Cheng; Jing Wang; James G. Kelly; Afesomeh Ofiare; S. Thoms; et al
出版日期:2024-12-11
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生化幻彩 在 2026-01-09 08:30:56 发布自山西,悬赏 10 积分
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