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标题
Plasma Processing for Silicon-Based Integrated Circuits
网址
DOI
10.1149/2.F07992IF doi
其它 期刊:The Electrochemical Society Interface
作者:G. S. Mathad; D.W. Hess; M. Meyyappan
出版日期:1999
求助人
积极的初南 在 2026-01-28 03:51:55 发布自湖北,悬赏 10 积分
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