Rational selection of the oxygen source for atomic layer deposition Al2O3 insulators

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标题	Rational selection of the oxygen source for atomic layer deposition Al2O3 insulators 原子层沉积Al2O3绝缘体氧源的合理选择相关领域材料科学原子层沉积薄膜晶体管光电子学电介质薄膜杂质磁滞图层（电子）分析化学（期刊）纳米技术化学凝聚态物理物理有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112315
DOI	10.1016/j.vacuum.2023.112315 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Xue Chen; Rongliang Wu; Jiaxian Wan; Hong‐Wei Wu; Hao Wu; et al 出版日期：2023-09-01
求助人	cmy 在 2025-11-30 10:12:04 发布自福建，悬赏 10 积分
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