| 标题 |
Mean Free Path of Electrons in Organic Photoresists for Extreme Ultraviolet Lithography in the Kinetic Energy Range 20–450 eV 相关领域
材料科学
光刻胶
平均自由程
平版印刷术
电子
抵抗
光电子学
动能
分子物理学
光学
纳米技术
化学
物理
散射
量子力学
图层(电子)
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Roberto Fallica; Nicola Mahne; Thierry Conard; A. Vanleenhove; Danilo De Simone; et al 出版日期:2023-07-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)