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  Characterization of SiO2 Etching Profiles in Pulse-Modulated Capacitively Coupled Plasmas 相关领域
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期刊：Materials 作者：Chulhee Cho; Kwang-Ho You; Sijun Kim; Youngseok Lee; Jang-Jae Lee; et al 出版日期：2021-09-03 |
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