Hydride Vapor Phase Epitaxy Flow Field Design and Uniformity Optimization for 4-in. Gallium Nitride Crystal Substrates

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标题	Hydride Vapor Phase Epitaxy Flow Field Design and Uniformity Optimization for 4-in. Gallium Nitride Crystal Substrates
网址	https://doi.org/10.1021/acs.cgd.5c01313
DOI	10.1021/acs.cgd.5c01313 doi
其它	期刊：Crystal Growth & Design 作者：Q Liu; Dong Wang; Zhanguo Qi; Zhongliang Yang; Defu Sun; et al 出版日期：2025-12-16
求助人	自己在 2026-08-12 10:55:12 发布自江苏，悬赏 10 积分
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