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Impact of in situ NH3 pre-treatment of LPCVD SiN passivation on GaN HEMT performance |
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期刊:Semiconductor Science and Technology 作者:Ding-Yuan Chen; Axel R Persson; Kai-Hsin Wen; Daniel Sommer; Jan Grünenpütt; et al 出版日期:2022-01-25 |
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