| 标题 |
Metrology of EUV masks by EUV-scatterometry and finite element analysis |
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| DOI |
10.1117/12.793032
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期刊:Photomask Japan 作者:J. Pomplun; S. Burger; F. Schmidt; F. Scholze; C. Laubis; et al 出版日期:2008-05-19 |
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(2025-6-4)