A Route to MoO2 film fabrication via atomic layer deposition using Mo(IV) precursor and oxygen reactant for DRAM applications

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标题	A Route to MoO2 film fabrication via atomic layer deposition using Mo(IV) precursor and oxygen reactant for DRAM applications
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2024.01.300
DOI	10.1016/j.ceramint.2024.01.300 doi
其它	期刊：Ceramics International 作者：Ara Yoon; Hae Lin Yang; Sanghoon Lee; Seunghwan Lee; Beomseok Kim; et al 出版日期：2024-04-01
求助人	找不到在 2026-08-01 20:36:37 发布自福建，悬赏 10 积分
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