Control of ion energy and angular distributions in dual-frequency capacitively coupled plasmas through power ratios and phase: Consequences on etch profiles

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标题	Control of ion energy and angular distributions in dual-frequency capacitively coupled plasmas through power ratios and phase: Consequences on etch profiles
网址	https://doi.org/10.1116/1.4915248
DOI	10.1116/1.4915248 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yiting Zhang; Mark J. Kushner; Saravanapriyan Sriraman; A. M. Marakhtanov; John Holland; et al 出版日期：2015-03-24
求助人	暗弱在 2026-07-09 14:49:02 发布自美国，悬赏 10 积分
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