Low-stress silicon oxide films deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition using ethylene as an additive

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标题	Low-stress silicon oxide films deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition using ethylene as an additive 以乙烯为添加剂的等离子体增强化学气相沉积低应力氧化硅薄膜
网址	求助人暂未提供
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
其它	Journal: Journal of Applied Physics
求助人	小白在 2025-06-04 11:33:20 发布自湖南，悬赏 10 积分
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