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标题
Towards ultimate optical lithography with NXT:1950i dual stage immersion platform
借助NXT：1950i双级浸没平台实现终极光学光刻
相关领域
浸没式光刻 覆盖 平版印刷术 薄脆饼 极紫外光刻 计算机科学 光刻 下一代光刻 材料科学 扫描仪 吞吐量 计量学 光学 计算机硬件 嵌入式系统 光电子学 抵抗 电子束光刻 纳米技术 物理 电信 人工智能 图层（电子） 无线 程序设计语言
网址
https://doi.org/10.1117/12.847025
DOI
10.1117/12.847025 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Tom Castenmiller; Frank van de Mast; Toine de Kort; Coen van de Vin; Marten de Wit; et al
出版日期：2010-03-11
求助人
ay 在 2025-07-12 18:46:30 发布自北京，悬赏 20 积分
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