Effect of Oxygen plasma treatment on the performance of GaN-based MIS-HEMTs

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标题	Effect of Oxygen plasma treatment on the performance of GaN-based MIS-HEMTs
网址	http://dx.doi.org/10.1109/imfedk56875.2022.9975436
DOI	10.1109/imfedk56875.2022.9975436 doi
其它	期刊：2022 IEEE International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai (IMFEDK) 作者：K. Sekiyama; M. Ishiguro; S. Yamazaki; S. Urano; A. Baratov; et al 出版日期：2022-11-28
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