标题 |
Chip Scale Prediction of Nitride Erosion in High Selectivity STI CMP
高选择性STI CMP中氮化物腐蚀的切屑尺度预测
相关领域
浅沟隔离
材料科学
氮化物
炸薯条
图层(电子)
氮化硅
化学机械平面化
光电子学
电子工程
沟槽
工程类
纳米技术
电气工程
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期刊:Laboratory for Manufacturing and Sustainability 作者:Jihong Choi; Shantanu Tripathi; David Hansen; David Dornfeld 出版日期:2006-02-01 |
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