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Influence of growth temperature on the structure and electrical properties of high‐permittivity TiO2 films in TiCl4‐H2O and TiCl4‐O3 atomic‐layer‐deposition processes |
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期刊:physica status solidi (a) 作者:T. Arroval; L. Aarik; R. Rammula; H. Mändar; J. Aarik; et al 出版日期:2013 |
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