Resolution Limits of Electron-Beam Lithography toward the Atomic Scale

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标题	Resolution Limits of Electron-Beam Lithography toward the Atomic Scale 电子束光刻向原子尺度的分辨率极限相关领域抵抗电子束光刻倍半硅氧烷氢材料科学平版印刷术扫描透射电子显微镜电子能量损失谱分辨率（逻辑）扫描电子显微镜阴极射线能量过滤透射电子显微镜电子束诱导沉积光学光谱学透射电子显微镜电子光电子学纳米技术物理图层（电子）量子力学人工智能计算机科学
网址	https://doi.org/10.1021/nl304715p
DOI	10.1021/nl304715p doi
其它	期刊：Nano Letters 作者：Vitor R. Manfrinato; Lihua Zhang; Dong Su; Huigao Duan; Richard G. Hobbs; et al 出版日期：2013-03-14
求助人	谢戴竹在 2025-10-08 10:39:36 发布自湖南，悬赏 10 积分
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