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Influence of power and pulsed regime of low frequency discharge on clusters incorporation in dielectric films for ReRAM application
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网址
https://doi.org/10.1117/12.2521784
DOI
10.1117/12.2521784 doi
其它 期刊：
作者：А. А. Попов; A. E. Berdnikov
出版日期：2019-03-15
求助人
研友_n0DR7n 在 2025-10-29 11:52:34 发布自江苏，悬赏 20 积分
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