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 Si-Compatible Cleaning Process for Graphene Using Low-Density Inductively Coupled Plasma 使用低密度电感耦合等离子体的硅兼容石墨烯清洗工艺
相关领域
石墨烯
感应耦合等离子体
材料科学
等离子体
纳米技术
过程（计算）
光电子学
计算机科学
物理
量子力学
操作系统
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期刊：ACS Nano 作者：Yeong-Dae Lim; Daeyeong Lee; Tian‐Zi Shen; Chang‐Ho Ra; Jae‐Young Choi; et al 出版日期：2012-04-20 |
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