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 Gate-bias stress in amorphous oxide semiconductors thin-film transistors 非晶氧化物半导体薄膜晶体管的栅极偏压
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期刊：Applied Physics Letters 作者：M. E. Lopes; Henrique L. Gomes; Maria C. R. Medeiros; Pedro Barquinha; L. Pereira; et al 出版日期：2009-08-10 |
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