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 Performance Optimization of Sulfonium-Functionalized Molecular Resists for EUV and Electron Beam Lithography 用于EUV和电子束光刻的锍功能化分子抗蚀剂的性能优化
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期刊：ACS applied electronic materials 作者：Zhuoran Liu; Jinping Chen; Tianjun Yu; Yi Zeng; Xudong Guo; et al 出版日期：2025-03-07 |
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