| 标题 |
Diffusion dynamics coupled with in situ etching enable controlled growth of InAs quantum dots with narrow SWIR emission 相关领域
量子点
材料科学
纳米团簇
蚀刻(微加工)
原位
光电子学
动力学
扩散
动力学(音乐)
调制(音乐)
红外线的
密度泛函理论
化学物理
纳米颗粒
表面扩散
激子
分子束外延
胶体
纳米技术
纳米结构
砷化铟
光致发光
量子
纳米晶
干法蚀刻
量子效率
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Science Bulletin 作者:Feng Zhao; Hongwei Duan; Y. Y. Wang; Y. Y. Wang; Feng Zhao; et al 出版日期:2026-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)