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From Atoms to Reactors: Multi-Scale Modeling for Semiconductor Fabrication
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网址
DOI
10.1109/sispad66650.2025.11186356 doi
其它 期刊:2025 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD)
作者:Lado Filipovic
出版日期:2025-09-24
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清爽老九 在 2026-11-12 12:11:49 发布自河南,悬赏 10 积分
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