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标题
Analysis of recombination centers near an interface of a metal–SiO2–Si structure by double carrier pulse deep-level transient spectroscopy
双载流子脉冲深能级瞬态谱分析金属-SiO2-Si结构界面附近的复合中心
相关领域
深能级瞬态光谱 载流子 载流子寿命 材料科学 重组 光电子学 半导体 光谱学 电子 原子物理学 化学 硅 物理 生物化学 量子力学 基因
网址
https://aip.scitation.org/doi/pdf/10.1063/5.0106319
AI链接 scitation.org scitation.org doaj.orgdoi.org
DOI
10.1063/5.0106319 doi
其它 期刊：AIP Advances
作者：Tomohiko Hara; Yoshio Ohshita
出版日期：2022-09-01
求助人
棒棒 在 2025-08-30 20:47:08 发布，悬赏 10 积分
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