| 标题 |
 书籍（章节） Ultra-low-k materials and chemical mechanical planarization (CMP) 相关领域
化学机械平面化
消耗品
铜互连
材料科学
电介质
背景（考古学）
可靠性（半导体）
缩放比例
光电子学
工程物理
集成电路
电子工程
复合材料
纳米技术
工程类
抛光
功率（物理）
物理
业务
古生物学
营销
生物
量子力学
数学
几何学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Elsevier eBooks 作者：Jakub Nalaskowski; S.S. Papa Rao 出版日期：2022-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Nole
秋风
cdercder
Enigma_GEB
无极微光
蓝天
aaaa
aajhajkahna
DW
111zzzzzz
极限001
YY
TYLZ
共产主义战士
嘉心糖
Shaw
xing_xing
殷勤的紫槐
GingerF
学术文献互助
皖公网安备34019202002308
