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Diffusion mechanisms of vacancy and doped Si in Al3Ti from first-principles calculations |
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10.1016/j.intermet.2011.03.012
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期刊:Intermetallics 作者:Guoliang Zhu; Yongbing Dai; Da Shu; Yanping Xiao; Yongxiang Yang; et al 出版日期:2011-07-01 |
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