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Simulation-guided AI-driven digital twin for plasma etching in semiconductor fabrication
网址
https://doi.org/10.1016/j.device.2025.101026
DOI
10.1016/j.device.2025.101026 doi
其它 期刊：
作者：Sanghoon Myung; Kyeyeop Kim; Chanyoung Lee; Jinwoo Kim; Yunji Choi; et al
出版日期：2026-02-03
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怕孤独的飞槐 在 2026-08-24 16:57:54 发布自美国，悬赏 10 积分
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